研磨即是利用剪切力（shear force）、摩擦力或冲力（impact force）将粉体由大颗粒研磨成小颗粒。分散是指经添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆，纳米颗粒完全被分离（separation）、润湿（wetting），分布（dispersion）均匀且稳定（stabilization）。

纳米粉体在湿法分散的过程中，粉体粒径变小、比表面积增大，选择合适的研磨参数至关重要，包括分散助剂、研磨介质及湿法研磨工艺。

分散助剂吸附在纳米颗粒的表面，降低浆液的粘度。研磨介质的粒径决定了粉体最终能湿磨到的粒径，若需达到纳米级要求且避免磨球损耗，需选择钇稳定氧化锆微珠，珠子表面需为真圆，直径通常为0.05-0.4mm。